經(jīng)典單管TO直插封裝有兩類TO-220和TO-247,其使逆變器系統(tǒng)并聯(lián)擴(kuò)容靈活,器件成本優(yōu)勢明顯,且標(biāo)準(zhǔn)封裝容易找替代品,廣泛應(yīng)用于中小功率范圍。在單管電驅(qū)應(yīng)用方案中可以覆蓋30kW到180kW功率范圍,最多需要6-8個(gè)單管的并聯(lián)來實(shí)現(xiàn)方案。
用于最新汽車級(jí)EDT2芯片的器件參數(shù)Vcesat/Vth分布比較集中,器件之間電氣參數(shù)差異小,并聯(lián)降額比例小,可以有效提升整體輸出能力。相比第三代650V IGBT3電流密度1.6A/mm2,EDT2芯片電流密度可以達(dá)到2.8A/mm2,相同封裝尺寸內(nèi)單管封裝額定電流也在增加,芯片技術(shù)提升了產(chǎn)品電流能力,但單管傳統(tǒng)散熱方式成為提升有效輸出電流的掣肘,且功率腳需要通過電阻焊方式連接母排實(shí)現(xiàn)更大負(fù)載載流。這就是通常說的“芯片”和“封裝”兩手都要抓,想一下芯片內(nèi)部結(jié)溫奇熱無比達(dá)到175°C,還要封裝快速散熱來多干活增加輸出出力。尤其當(dāng)汽車加速超車,想感受一下加速度時(shí)推背感,瞬時(shí)大扭矩大電流輸出才能保證,那只能想辦法將封裝改進(jìn)一下,但同時(shí)還要考慮汽車電驅(qū)長期可靠性運(yùn)行,滿足AQG 相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)。
單管散熱問題
單管TO-247 PLUS是在傳統(tǒng)TO-247上經(jīng)過優(yōu)化內(nèi)部布局,以放置更多芯片實(shí)現(xiàn)電流密度增加而開發(fā)的新封裝,如圖 1(a)。其內(nèi)部鍵合綁定線數(shù)量達(dá)到4根,提升電流能力的同時(shí)也增加了產(chǎn)品可靠性,如圖1(b)。
由于新封裝上沒有額外安裝孔,安裝時(shí)用夾具可以節(jié)省生產(chǎn)時(shí)間,且整個(gè)熱擴(kuò)散底板面積達(dá)到190mm2,相比TO-247-3封裝也可以提升26%,熱表征參數(shù)熱阻RthjH也有一定改善。但這種局部封裝變化對(duì)整個(gè)輸出電流增加比較有限,如何改進(jìn)封裝來提升輸出能力?要從單管實(shí)際應(yīng)用中影響散熱外部熱傳輸?shù)穆窂饺胧帧?/span>
圖1 單管TO-247 PLUS封裝
如圖2(a)是單管散熱時(shí)的基本組成部分,由于芯片背面的集電極collector焊接在引線框架上,通過綁定線與外部功率端子相連,因此從背板到水冷板連接界面不僅要考慮散熱問題,以確保低Rth(CH)熱阻,還要保證絕緣能力達(dá)到低耦合電容Cσ的需求,確保電氣長期工作的可靠性,這都使單管的生產(chǎn)安裝相對(duì)復(fù)雜些,成本會(huì)高些。
圖2 單管散熱路徑和方法
圖2 (b)是典型兩種單管散熱絕緣方法,左邊是直接涂敷即絕緣有導(dǎo)電的復(fù)合材料,但其厚度要達(dá)到230um,折彎安裝時(shí)易損壞;右邊是常規(guī)散熱界面,采用厚度150um、導(dǎo)熱率1.3W/m*k絕緣薄膜K10來實(shí)現(xiàn),成本比較低。
由于單管背板沿對(duì)角線形狀呈現(xiàn)中間低兩頭高的分布,有時(shí)需要50um、導(dǎo)熱率2W/m*k的導(dǎo)熱硅脂進(jìn)行填充確保絕緣薄膜與底板、散熱器之間有良好接觸。更進(jìn)一步的方法,則是在單管的底板預(yù)涂絕緣復(fù)合材料,能滿足低耦合電容,2.5kV/1min 50Hz絕緣要求,這樣不僅能降低35%熱阻RthjH,增加器件輸出功率,降低器件運(yùn)行結(jié)溫,而且能簡化單管安裝過程,降低生產(chǎn)成本,且100%出廠測試。但從復(fù)合材料自身導(dǎo)熱率3W/m*K上看,降低熱阻仍然有很大提升空間。從導(dǎo)熱性能上看硅脂、絕緣膜、絕緣復(fù)合材料都不是最優(yōu)的選擇,都會(huì)影響散熱性能發(fā)揮,進(jìn)而成為單管輸出功率增加的瓶頸。
背板回流焊接
那有沒有即絕緣又保證散熱良好的解決方法呢?英飛凌的TO-247 PLUS封裝像SMD一樣,其背板可以回流焊接在AL2O3 DCB 或 Si3N4 AMB上,同時(shí)該陶瓷基板需要再焊接到冷卻板上。圖3所示為典型結(jié)構(gòu),每層厚度和材料導(dǎo)熱率如表1所示。焊錫材料采用無鉛合金焊材SAC305,含錫量96.5%, 3%銀和0.5%銅,符合RoHS,Reach并符合 IPC J-STD-006 標(biāo)準(zhǔn),其潤濕性好,流動(dòng)性強(qiáng),高可焊性和擴(kuò)展性,其典型液相線溫度為220°C。在實(shí)際應(yīng)用中組件也有通過導(dǎo)熱硅脂或相變材料與水冷板形成導(dǎo)熱界面,此時(shí)需要夾具來固定確保很好接觸,安裝壓力的不同會(huì)引起熱阻的差異。
圖 3 單管組件背板焊接截面示意圖
下表1是上圖中200A/750V單管橫截面中每層的物理材料厚度、導(dǎo)熱系數(shù)以及熱膨脹系數(shù)CTE值,其中陶瓷襯底DCB AL2O3是標(biāo)準(zhǔn)尺寸。
表1 每層厚度和熱參數(shù)特性
陶瓷襯底是這個(gè)單管回流焊外部最主要的散熱路徑,除了表中標(biāo)準(zhǔn)AL2O3襯底外,還有其它如高性能ZTA AL2O3,主要性能如熱膨脹系數(shù)CTE、導(dǎo)熱參數(shù)、楊氏模量、介電常數(shù)基本都變化不大。通過在AL2O3中添加9% -30%氧化鋯ZrO2,材料抗彎曲度大大提升,大于450Mpa左右。這能有效地減小由于器件安裝時(shí)夾具產(chǎn)生應(yīng)力或焊接中熱膨脹產(chǎn)生的形變熱應(yīng)力引起絕緣襯底裂紋的風(fēng)險(xiǎn)。另外,傳統(tǒng)DCB通過共晶鍵合法,銅和陶瓷之間沒有粘結(jié)材料,尤其單管SiC在器件高溫、大功率、高散熱、高可靠性上很難滿足需求。而氮化硅Si3N4-AMB作為絕緣襯底是在個(gè)不錯(cuò)的選擇,抗彎曲度大于700Mpa,導(dǎo)熱系數(shù)是80W/m*k,熱膨脹系數(shù)2.5x10-6/k,與Si材料很接近。AMB覆銅基板利用活性元素可以潤濕陶瓷表面特性,通過活性金屬釬焊工藝形成粘結(jié)強(qiáng)度高的界面。因此,絕緣襯底選擇以及焊接工藝參數(shù)是單管背板回流焊接是否成功的外部決定因素,但單管封裝自身是否能滿足回流背板焊接是關(guān)鍵的內(nèi)部因素和基礎(chǔ),二者在應(yīng)用層面不可或缺。
改善熱阻Rth
單管背板回流焊接對(duì)散熱和絕緣處理來說都是一個(gè)很好的解決方案,可以把影響單管輸出電流流能力的兩個(gè)關(guān)鍵問題克服?;谇氨硖峁?/span>750V/200A EDT2單管各層材料的數(shù)據(jù)進(jìn)行理論上熱阻數(shù)據(jù)的直觀對(duì)比,圖4分為5種不同應(yīng)用情況進(jìn)行評(píng)估,覆蓋DCB雙面、單面焊接和涂導(dǎo)熱硅脂相結(jié)合。這個(gè)只是理論上評(píng)估熱阻差異,垂直散熱看實(shí)際理論熱阻,與實(shí)際芯片發(fā)熱引起熱阻會(huì)不同??紤]客戶無法滿足焊接工藝時(shí),可以考慮導(dǎo)熱硅脂和焊接配合的應(yīng)用情況。從結(jié)果看,這種單管背板焊接工藝大大降低熱阻,常用的DCB AL2O3相比導(dǎo)熱絕緣薄膜K10而言最大達(dá)到減少了65%,進(jìn)一步用導(dǎo)熱性能更好的AMB S3N4陶瓷襯底,熱阻還可以進(jìn)一步優(yōu)化降低。從輸出電流能力和可靠性提升上,這是一個(gè)好選擇,但從成本上講不是最優(yōu)。
圖 4 不同陶瓷襯底和導(dǎo)熱硅脂結(jié)合熱阻對(duì)比
從單管芯片到外部襯底焊接整個(gè)環(huán)節(jié)RthjH里面來看,圖5和6是兩種的熱阻分布情況。從傳統(tǒng)K10分布看其占據(jù)熱阻比例達(dá)到77%,是整個(gè)散熱路徑的主要瓶頸和決定因素,因此,進(jìn)一步印證用單管背板回流焊解決這個(gè)環(huán)節(jié)的必要性。從經(jīng)典AL2O3 DCB 熱阻分布看,AL2O3絕緣材料在整個(gè)散熱路徑中占比達(dá)到54%,DCB兩面的焊接層占比達(dá)到12%,因此,這也為如何進(jìn)一步優(yōu)化背板焊接增強(qiáng)散熱能力提供了方向,改善焊接層工藝,如Sinter銀燒結(jié)工藝,或高性能襯底材料,如Si3N4襯底,甚至單管芯片直接焊接在DCB上都是提升單管散熱的方向,尤其使用芯片面積更小的SiC芯片。
空洞現(xiàn)象
在背板回流焊時(shí)界面空洞率是表征基板質(zhì)量的重要因數(shù)之一,產(chǎn)生基板的空洞率主因有兩個(gè)方面,其一原料表面有凹凸、劃痕、有機(jī)污染等質(zhì)量上的問題,其二焊接工藝參數(shù)影響焊料潤濕性,不能形成有效焊接可靠的焊接層。
DCB焊接層形成的空洞不僅在周邊有放電隱患影響電氣性能,還會(huì)影響導(dǎo)熱性能,這也是焊接中不可避免的問題,同時(shí)也是背板焊接好壞的關(guān)鍵,尤其電驅(qū)長時(shí)間工作進(jìn)行高低溫沖擊時(shí)可靠性問題。圖7中左邊是小空洞聯(lián)合起來形成大的空洞,右邊是分散分布小的空洞。即使二者有相同的空洞百分比,但單個(gè)深大空洞對(duì)熱阻和可靠性影響最為嚴(yán)重,熱集中在該點(diǎn)上,容易出現(xiàn)熱失效問題[3]。
可以進(jìn)一步用具體化實(shí)例來看這個(gè)空洞影響,假定在單管芯片正下方有個(gè)圓形空洞,DCB尺寸20mmx23mm, 如圖8所示初始熱阻Rthja為0.292k/W, 當(dāng)空洞增加到10%,熱阻增加了10.3%;當(dāng)空洞增加到25%, 熱阻增加了34.2%。因此,空洞率和空洞大小成為單管背板回流焊接的關(guān)鍵。
回流焊接工藝要求
根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)J-SDT-020E要求,非氣密性封裝按照濕氣引起應(yīng)力的敏感度來分類,以確保他們能正確儲(chǔ)存、安裝和回流焊時(shí)不被損壞。表2為無鉛封裝工藝流程的溫度定義。按照EDT2 TO-247 PLUS 3pin的厚度5mm、體積1670mm3,4pin厚度4.8mm、體積為1729mm3 ,焊接最大允許峰值溫度不超過245°C,如綠色方框所示。
表2 不同封裝焊接溫度
按照標(biāo)準(zhǔn)中根據(jù)封裝含錫鉛和無鉛來分類,目前絕大封裝都是無鉛封裝,如圖9中紅色方框所示來定義回流焊工藝要求,右圖為圖形化來顯示焊接溫度曲線,主要是要求單管封裝從預(yù)熱區(qū)域從Tsmin到Tsmax,升溫區(qū)從Tl到Tp ,回流焊接區(qū)及最大允許峰值溫度Tp,到冷卻區(qū),在每個(gè)溫度的變化區(qū)間都有溫度上升斜率和持續(xù)時(shí)間要求。
圖9 STD標(biāo)準(zhǔn)中回流焊溫度
對(duì)于用戶不要超過最大限制溫度245°C,對(duì)于單管器件焊接過程由于焊接溫度波動(dòng)、背板平整度、焊料材料合金差異,其實(shí)際短時(shí)焊接峰值溫度要大于最大溫度限制,這對(duì)單管封裝優(yōu)化都帶來了挑戰(zhàn)。如圖10為不同溫度情況出現(xiàn)焊接層的空洞,這對(duì)焊接長期可靠性會(huì)帶來一些可能的風(fēng)險(xiǎn),需要工藝和器件封裝同時(shí)優(yōu)化來提升。關(guān)于單管真空回流焊接工藝和空洞分析,建議進(jìn)一步與原廠進(jìn)行溝通,會(huì)針對(duì)性地提出一些改進(jìn)措施和方法。
圖10 實(shí)際焊接空洞
改進(jìn)單管封裝
是不是現(xiàn)存的TO-247封裝都能滿足這種回流焊的能力呢?答案是明確不推薦。主要問題是塑封材料在運(yùn)輸儲(chǔ)存過程中有空氣濕氣滲入其中,在高溫回流焊中發(fā)生膨脹可能會(huì)引起塑封從引線框架上出現(xiàn)分層以及芯片焊接處熔化問題,如圖11。當(dāng)背板焊接曲線最高熔點(diǎn)溫度越高,其分層和熔化現(xiàn)象約明顯,如圖12。所以有時(shí)需要通過預(yù)加熱方式或采用低溫焊錫膏來解決現(xiàn)存封裝的問題,這都會(huì)增加應(yīng)用成本和系統(tǒng)的長期工作可靠性。
改進(jìn)封裝TO-247 PLUS經(jīng)過優(yōu)化處理解決分層問題,使單管焊接在DCB上可以長期可靠工作。按照IPC/JEDEC J-SDT-020可以滿足MSL1 等級(jí)和焊接曲線要求,包括芯片頂部與塑封材料,引腳/引線頂部以及芯片焊接引線框架部分都沒有出現(xiàn)分層和熔化,如圖13所示。
圖13 改進(jìn)封裝后的焊接效果
英飛凌汽車級(jí)可回流焊單管有120A、160A、200A三種電流規(guī)格且該封裝在規(guī)格書中都有相關(guān)回流焊接能力的標(biāo)注和承諾,詳情請參考相關(guān)規(guī)格書。考慮到電驅(qū)應(yīng)用中水冷條件下單管電流出力能力很高,有效值電流水平幾乎達(dá)到額定電流80%以上,其綁定線和引腳熱應(yīng)力會(huì)比較嚴(yán)重,功率回路需要母排來載流,單管功率腳也需要電阻焊能力;同時(shí)考慮未來SiC單管要做到9mohm,電流要到200A以上,TO-247 PLUS-4經(jīng)過優(yōu)化增加腳寬度來減少熱應(yīng)力,同時(shí)功率C-E之間Pin腳間距達(dá)到7mm,可以滿足高電壓470V應(yīng)用需求。由于發(fā)射極kelvin腳的引入,損耗降低的優(yōu)勢進(jìn)一步顯現(xiàn),大約12%降低,建議產(chǎn)品設(shè)計(jì)考慮該封裝帶來的效率提升。